Laboratorio per la Deposizione di Film Sottili

Laboratorio per la Deposizione di Film Sottili

In questo laboratorio si studiano i meccanismi fondamentali di crescita di film sottili di materiali avanzati per applicazioni nel settore della generazione elettrica mediante metodi di deposizione fisica da vapore (PVD).

I processi PVD sono studiati e sviluppati mediante sistemi di evaporazione in alto vuoto con cannone elettronico ed evaporatori termici e sono progettati per produrre strati sottili di elevata qualità ed omogeneità su ampie superfici. I parametri di evaporazione, come la velocità di deposizione, il flusso dei gas di processo e lo spessore degli strati, possono essere controllati via computer e monitorati in tempo reale.

La caratterizzazione dei film sottili realizzati è supportata da un’ampia gamma di apparecchiature disponibili presso il Centro Ricerche Edison, comprese tecniche come la diffrattometria a raggi X (XRD), la spettrometria di massa a plasma accoppiato induttivamente (ICP) e la microscopia elettronica a scansione (SEM) con microanalisi.

Gli attuali argomenti di ricerca riguardano la progettazione e la fabbricazione di film sottili dell’elettrolita solido e del layer protettivo dell’interconnessione per stack di celle a combustibile a ossidi solidi (SOFC). Questi processi sono applicati a ceramiche e materiali metallici per superare gli attuali colli di bottiglia tecnologici che limitano uno sviluppo su larga scala delle celle a combustibili.